韩国EUV光刻技术方面取得重大进展

据businesskorea报道，韩国本土企业在EUV光刻技术方面取得重大进展。

韩国知识产权局(KIPO)发布的《过去10年(2011-2020年)专利申请报告》显示，2014年，向韩国知识产权局(KIPO)提交的与EUV光刻相关的专利申请数量达到88件的峰值，2018年达到55件，2019年达到50件。

特别是，韩国公司正在迅速缩小其在极紫外光刻技术上与外国公司的差距。2019年，韩国本土提出的专利申请数量为40件，超过了国外企业的10件。这是韩国提交的专利申请首次超过国外。2020年，韩国提交的申请数量也是国外的两倍多。

过去10年，包括三星电子在内的全球企业进行了密集的研发，以确保技术领先地位。最近，代工公司开始使用5nm EUV光刻技术来生产智能手机的应用处理器。

从公司来看，全球六大公司的专利申请数占了总数的59%，卡尔蔡司(德国)18%，三星电子(韩国)15%，ASML(荷兰)11%，S&S Tech(韩国)8%，台积电(中国台湾)6%，SK海力士(韩国)1%。

从具体技术项目看，工艺技术申请专利占32%，曝光装置技术申请专利占31%，掩膜技术申请专利占28%，其他申请专利占9%。在工艺技术领域，三星电子占39%，台积电占15%。在光罩领域，S&S科技占28%，Hoya(日本)占15%，汉阳大学(韩国)占10%，朝日玻璃(日本)占10%，三星电子占9%。

(校对/零叁)

关键词： 韩国EUV光刻技术