全球光刻胶行业申请人专利技术分布：H01L21细分领域布局较多

2022-06-07 09:54:25来源：前瞻网

光刻胶行业主要上市公司：(300398)、(300576)、(300537)、(300236)、(002326)、(002409)、(603078)等

本文核心数据：技术来源国、专利申请人排名、专利申请新进入者、市场最高专利价值

全文统计口径说明：1)搜索关键词：光刻胶及与之相近似或相关关键词;2)搜索范围：标题、摘要和权利说明;3)筛选条件：简单同族申请去重、法律状态为实质审查、授权、PCT国际公布、PCT进入指定国(指定期)，简单同族申请去重是按照受理局进行统计。4)统计截止日期：2021年9月23日。5)若有特殊统计口径会在图表下方备注。

1、全球光刻胶技术区域竞争格局情况

——全球光刻胶行业技术来源国分布：日本占比最高

目前，全球光刻胶第一大技术来源国为日本，日本光刻胶专利申请量占全球光刻胶专利总申请量的46%;其次是美国，美国光刻胶专利申请量占全球光刻胶专利总申请量的25%。

2)全球光刻胶行业专利申请趋势：2020年中国反超美国，日美“你追我赶”

从趋势上看，2010-2021年，日本光刻胶专利申请数量总体领先，但是在2019年被美国反超、2020年被中国反超。2020年，中国光刻胶专利申请量为1.29万项，日本光刻胶专利申请量下降至8982项。

3)中国光刻胶行业区域专利申请分布：广东专利申请数量自2016年后一直位居榜首

中国方面，上海为中国当前申请光刻胶专利数量最多的省份，累计当前光刻胶专利申请数量高达1.88万项。北京、江苏、广东当前申请光刻胶专利数量均超过1万项。中国当前申请省(市、自治区)光刻胶专利数量排名前十的省份还有中国台湾、浙江、湖北、安徽和陕西。

趋势方面，2017年以前，上海的专利申请量适中保持领先;2017年以后，江苏、北京和广东的光刻胶申请量“你追我赶”;此外，安徽、浙江的专利申请量也波动较大。

2、全球光刻胶技术申请人竞争格局情况

——全球光刻胶行业专利申请人集中度：市场集中度不高，CR10波动上升

2010-2021年9月，全球光刻胶专利申请人CR10呈现波动上升趋势，由2010年的15.89%波动下降至2021年9月的21.28%。整体来看，全球光刻胶专利申请人集中度较低，且集中度呈现上升趋势。

2)全球光刻胶行业TOP10专利申请人分析

(1)全球光刻胶行业专利申请人专利总量及趋势：竞争格局趋稳、佳能株式会社夺得桂冠

全球光刻胶行业专利申请数量TOP10申请人分别是佳能株式会社、株式会社东芝、三星电子株式会社、松下电器产业株式会社、爱思开海力士有限公司、富士通株式会社、株式会社理光、株式会社日立制作所、索尼公司、日本电気株式会社。

其中，佳能株式会社公司光刻胶专利申请数量最多，为2.79万项。株式会社东芝、三星电子株式会社公司排名第二和第三，其光刻胶专利申请数量均超过2.3万项。

趋势方面，2010-2015年，全球前十大光刻胶专利申请人申请的光刻胶专利数波动较大;2016年以后，申请人申请的光刻胶专利数趋缓，同时，TOP10的排名于2016年以后逐渐趋稳。其中，株式会社理光在2010-2013年的申请量位居首位;佳能株式会社在2014-2019年间的申请量位居第一;三星电子株式会社在2020-2021年的申请量位居行业首位。